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噴淋式mocvd反應器輸運過程的數(shù)值模擬研究.doc

  
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噴淋式mocvd反應器輸運過程的數(shù)值模擬研究,噴淋式mocvd反應器輸運過程的數(shù)值模擬研究1.8萬字47頁 原創(chuàng)作品,已通過查重系統(tǒng)摘要 金屬有機化學氣相沉積(metal organic chemical vapor,簡稱mocvd)是制備半導體器件、金屬、金屬氧化物、金屬氮化物等薄膜材料的一種技術。該技術是制備微電子和光電子包括激光和微波器件的關鍵,是半導體技術...
編號:99-1364835大小:4.31M
分類: 論文>機械工業(yè)論文

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噴淋式MOCVD反應器輸運過程的數(shù)值模擬研究


1.8萬字 47頁 原創(chuàng)作品,已通過查重系統(tǒng)


摘要 金屬有機化學氣相沉積(metal organic chemical vapor,簡稱MOCVD)是制備半導體器件、金屬、金屬氧化物、金屬氮化物等薄膜材料的一種技術。該技術是制備微電子和光電子包括激光和微波器件的關鍵,是半導體技術的一項重要支柱。該技術在薄膜制備方面對薄膜材料的質(zhì)量、厚度的均勻性等要求非常嚴格,并涉及到了復雜的氣體流動與傳熱傳質(zhì)問題,并伴隨著許多物理化學現(xiàn)象的發(fā)生。因而國內(nèi)關于反應器內(nèi)流場與溫度場的研究只是還處于起步階段,對于MOCVD反應器內(nèi)流動進行計算并掌握其規(guī)律是十分必要的。本文簡要介紹CVD基本原理,MOCVD國內(nèi)外研究現(xiàn)狀,并對噴淋式MOCVD反應器的輸運過程利用FLUENT軟件進行數(shù)值模擬,研究反應器內(nèi)各種操作參數(shù)(如氣體的流量、壓強、壁面和襯底的溫度等)對流場、溫度場的影響,研究反應器的幾何形狀和尺寸對輸運過程的影響。


關鍵詞:MOCVD反應器 流場 溫度場 數(shù)值模擬



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