不同退火溫度對AZO/Ag/FTO薄膜光電性能的影響


2.4萬字 39頁 原創(chuàng)作品，已通過查重系統(tǒng)

目 錄
摘要 I
Abstract II
第1章 緒論 1
1.1 透明導電氧化物薄膜概述 1
1.1.1 Al摻雜氧化鋅材料(AZO)的結(jié)構(gòu)，性質(zhì)和發(fā)展 2
1.1.2 F摻雜氧化錫材料(FTO)的結(jié)構(gòu)，性質(zhì)和發(fā)展 4
1.2 薄膜的制備方法 4
1.2.1 磁控濺射法 6
1.2.2 溶膠-凝膠法 5
1.2.3 真空蒸鍍法 6
1.2.4 化學氣相沉積(CVD)法 6
1.2.6 其他制備法 7
1.3 提高薄膜性能的重要工藝(退火) 9
1.3.1 退火種類...............................................................................................................9
1.3.2 退火對薄膜性能影響...........................................................................................9
1.4 本課題的目的、意義和研究內(nèi)容 10
第2章 AZO/Ag/FTO薄膜熱退火處理 11
2.1 實驗的設(shè)計 11
2.2 實驗部分 11
2.2.1 實驗材料和儀器 11
2.2.2 實驗儀器 11
2.2.3 實驗樣品的預處理 13
2.3 薄膜的制備方法 14
2.3.1 FTO基片表面鍍膜 14
2.4 結(jié)果分析與討論 15
2.4.1 薄膜的生長模式及過程 15
2.4.2 分步退火對AZO/Ag/FTO薄膜表面形貌的影響 16
2.4.3 整體退火對AZO/Ag/FTO薄膜表面形貌的影響 17
2.5 本章小結(jié) 18
第3章 AZO/Ag/FTO薄膜光電性能測試與分析 20
3.1 樣品性能測試 20
3.1.1 紫外可見分光光度計 20
3.1.2 四探針測試儀 21
3.2 結(jié)果分析與討論 22
3.2.1 分步退火中不同退火溫度對薄膜光電性能影響 22
3.2.2 整體退火中不同退火溫度對薄膜光電性能影響 25
3.2.3 不同薄膜樣品的品質(zhì)因子值 26
3.3 本章小結(jié) 26
第4章 結(jié)論與展望 28
4.1 結(jié)論 28
4.2 展望 28
致 謝 30
參考文獻 31



摘要：三層復合薄膜由于其良好性能越來越受到關(guān)注。而AZO/Ag/FTO三層復合薄膜作為其中一種，其優(yōu)化制備技術(shù)（退火）成為目前研究熱點，但目前對于該方面的報道較少，很多性能參數(shù)不夠詳盡，因此，本文在不同退火條件下采用不同退火溫度對AZO/Ag/FTO三層復合薄膜進行退火，研究對其光電性能的影響，獲得足夠詳盡綜合的數(shù)據(jù)，通過SEM、紫外-可見分光光度計、四探針測試儀對薄膜的形貌與性能進行表征和分析，探討了不同工藝參數(shù)對薄膜的光學、電學性能的影響，還估算了不同薄膜的品質(zhì)因子。主要結(jié)論如下：
與未退火處理過的AZO/Ag/FTO多層復合薄膜相比，退火處理過的樣品具有更高的透光率。同時分步退火和整體退火得到樣品的光學性能不盡相同，在分步退火手段下，450 ℃退火溫度下的樣品具有最優(yōu)透光率。與未退火樣品相比，所有退火的AZO/Ag/FTO薄膜方塊電阻值明顯下降，同時在500 ℃下分步退火的薄膜樣品具有最低的方塊電阻，為4.9 Ω/□。實驗中，在450 ℃下分步退火的AZO/Ag/FTO薄膜的品質(zhì)因子最大，為4.78×10-3 Ω-1，表明該薄膜具有最佳的綜合光電性能。

關(guān)鍵詞：AZO/Ag/FTO薄膜 磁控濺射 退火 光電性能 品質(zhì)因子