無(wú)機(jī)表面印跡磁性粉煤灰復(fù)合光催化劑的制備及其選擇性光降解甲磺酸達(dá)諾沙星的研究
Preparation of inorganic surface imprinted magnetic fly-ash composite photocatalyst and the research of selective degradation of danofloxacin mesylate

1.5萬(wàn)字 35頁(yè) 原創(chuàng)作品，已通過(guò)查重系統(tǒng)


目錄
摘要 III
關(guān)鍵詞 III
第一章 綜述部分 - 1 -
1. 表面印跡技術(shù) - 1 -
1.1 表面印跡技術(shù)概述 - 1 -
1.2 表面印跡技術(shù)的基本原理 - 2 -
1.3 表面印跡聚合物性質(zhì)及類型 - 3 -
1.3.1 表面印跡聚合物的性質(zhì) - 3 -
1.3.2 表面印跡聚合物的類型 - 3 -
1.4 表面印跡聚合物的制備方法[9-13] - 4 -
1.4.1 本體聚合法 - 4 -
1.4.2 乳液聚合法 - 4 -
1.4.3 懸浮聚合法 - 5 -
1.4.4 沉淀聚合法 - 5 -
1.5 表面印跡技術(shù)的應(yīng)用[18-21] - 6 -
1.5.1 在色譜分析中的應(yīng)用 - 6 -
1.5.2 在生物傳感器方面的應(yīng)用 [24-27] - 7 -
1.5.3 在固相萃取方面的應(yīng)用 - 7 -
1.5.4 在藥物釋放方面的應(yīng)用 - 8 -
1.5.5 在催化領(lǐng)域的應(yīng)用 - 8 -
2. 表面印跡技術(shù)在光催化領(lǐng)域的發(fā)展及展望 - 9 -
第二章 實(shí)驗(yàn)部分 - 11 -
1. 引言 - 11 -
2. 實(shí)驗(yàn)部分 - 12 -
2.1 實(shí)驗(yàn)試劑 - 12 -
2.2 實(shí)驗(yàn)儀器 - 12 -
2.3 光催化劑的制備 - 13 -
2.3.1磁性粉煤灰（MFac）的制備 - 13 -
2.3.2 MFac的改性 - 13 -
2.3.3 ZnO/MFac復(fù)合光催化劑的制備 - 14 -
2.3.4無(wú)機(jī)印跡ZnO/MFac復(fù)合光催化劑的制備 - 14 -
2.4吸附實(shí)驗(yàn) - 14 -
2.5光催化降解實(shí)驗(yàn) - 14 -
2.6考察不同合成條件對(duì)無(wú)機(jī)印跡ZnO/MFac復(fù)合光催化劑的影響 - 15 -
2.7選擇性考察 - 16 -
3. 結(jié)果與討論 - 16 -
3.1 XRD圖譜 - 16 -
3.3 UV-vis光譜 - 18 -
3.4 VSM測(cè)試 - 19 -
3.5吸附平衡考察 - 20 -
3.6不同DM的量對(duì)光催化降解的影響 - 21 -
3.7不同醋酸鋅含量對(duì)光催化降解的影響 - 22 -
3.8 不同洗脫時(shí)間對(duì)光催化活性的影響 - 23 -
3.9對(duì)比試驗(yàn) - 24 -
3.10選擇性考察 - 25 -
第三章 總結(jié) - 26 -
致謝 - 27 -
參考文獻(xiàn) - 28 -


摘要：水污染一直是人們關(guān)注最多的環(huán)境問(wèn)題，其污染源主要來(lái)自工業(yè)廢水、生活廢水和醫(yī)藥廢水。如常見(jiàn)的染料廢水具有色度深、毒性大、成分復(fù)雜、比較難于處理的特點(diǎn)；醫(yī)藥廢水中的抗生素殘存所帶來(lái)的負(fù)面效應(yīng)直接影響到環(huán)境生態(tài)和人體的健康，越來(lái)越引起人們的關(guān)注。目前廢水處理的手段主要有物理法、化學(xué)法、生物化學(xué)法等，但眾多廢水處理技術(shù)或存在運(yùn)行成本高、或帶有二次污染等缺點(diǎn)，使得處理效果不能令人滿意。
半導(dǎo)體光催化降解技術(shù)是一種高級(jí)氧化技術(shù)，是一種最有可能利用自然界太陽(yáng)光實(shí)現(xiàn)清潔去污的環(huán)境友好技術(shù)，目前已成為人們關(guān)注較多的廢水處理方法。但普通光催化劑只具有廣譜性，而不具有選擇性，不能從眾多污染物中選擇性去除目標(biāo)污染物，因此，國(guó)內(nèi)外學(xué)者們將印跡技術(shù)與光催化技術(shù)相結(jié)合，制備出印跡光催化材料，使其能選擇性去除目標(biāo)物。本實(shí)驗(yàn)中，我們選取磁性粉煤灰為載體，以甲磺酸達(dá)諾沙星為模板分子，采用無(wú)機(jī)表面印跡技術(shù)制備出無(wú)機(jī)表面印跡ZnO/MFac復(fù)合光催化劑；利用XRD、SEM、UV-vis DRS等對(duì)制備的光催化劑進(jìn)行表征，通過(guò)在紫外光條件下光催化降解抗生素廢水來(lái)評(píng)價(jià)ZnO/MFac復(fù)合光催化劑的選擇性和光催化降解活性。結(jié)果表明：無(wú)機(jī)表面印跡光催化劑可有效實(shí)現(xiàn)選擇性優(yōu)先降解目標(biāo)污染物，光催化活性也有明顯提高，紫外光光照射120 min其降解效率可達(dá)88.5%，并且顯示出較好的選擇性降解能力。


關(guān)鍵詞：無(wú)機(jī)印跡技術(shù)，磁性粉煤灰，氧化鋅，選擇性光降解，甲磺酸達(dá)諾沙星