材料科學(xué)與工程 材料物理與化學(xué)，外文文獻翻譯及原文

Effect of sputtering pressure and rapid thermal annealing on optical properties of Ya205 thini flms

濺射氣壓和快速熱退火對五氧化二鉭薄膜光學(xué)性能的影響

摘要 采用直流反應(yīng)磁控濺射技術(shù)制備了五氧化二鉭薄膜，并對其進行了快速退火熱處理。研究了濺射氣壓和退火溫度對五氧化二鉭的表面性能，微觀結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能的影響。制備的Ta2O5薄膜為非晶結(jié)構(gòu)，經(jīng)過800 oC退火處理后，變?yōu)榱较嘟Y(jié)構(gòu)的δ- Ta2O5。若退火溫度為900-1000 oC則從六方相轉(zhuǎn)變?yōu)檎幌?。在低溫下退火氧化鉭的表面粗糙度會降低。退火溫度增加氧化鉭薄膜的消光系數(shù)和折射率會隨之下降。